Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) - это процесс, используемый для получения паров металлов, которые можно наносить на электропроводящие материалы в виде тонкого покрытия из чистого металла или сплава с высокой адгезией. Процесс проводят в вакуумной камере при высоком вакууме (10–6 торр) с использованием катодного дугового источника.
Каковы три этапа процесса PVD?
Основными процессами PVD являются испарение, напыление и ионное покрытие.
В чем разница между PVD и CVD?
PVD, или физическое осаждение из паровой фазы, представляет собой процесс покрытия на линии прямой видимости, который позволяет наносить тонкие покрытия и острые края. CVD, с другой стороны, означает химическое осаждение из паровой фазы и толще для защиты от тепла. PVD обычно используется для чистовой обработки инструментов, тогда как CVD лучше всего подходит для черновой обработки
Каковы общие области применения покрытий методом физического осаждения из паровой фазы?
PVD используется в производстве широкого спектра товаров, в том числе полупроводниковых устройств, алюминизированной ПЭТ-пленки для воздушных шаров и пакетов для закусок, оптических покрытий и фильтров, режущих инструментов с покрытием для металлообработка и износостойкость, высокоотражающие пленки для декоративных дисплеев.
Какова основная концепция физического и химического осаждения из паровой фазы?
Разница между физическим осаждением из паровой фазы (PVD) и химическим осаждением из паровой фазы (CVD) Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) и химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это два процесса, используемые для получения очень тонкого слоя материал, известный как тонкая пленка, на подложку.
